Dans la fabrication photovoltaïque, le nettoyage des plaquettes a un impact direct sur le revêtement et les performances électriques ultérieurs. Les architectures traditionnelles basées principalement sur les E/S locales rencontrent souvent des difficultés lorsque davantage de points de surveillance, de diagnostics à distance ou d'optimisation des processus sont nécessaires.

Dans un projet, un système de nettoyage de plaquettes a adopté un automate programmable industriel (API) Omron ainsi qu'une solution d'E/S distantes RB. La configuration de 3×RB-1110, 3×16DI, 3×16DO, 1×AI et 1×AO permet une surveillance et un contrôle centralisés de l'état de la machine, de la pression de l'eau et de la concentration chimique.

Les entrées et sorties numériques suivent les entraînements, les portes de sécurité, les niveaux et les alarmes. Les canaux analogiques lisent les signaux de pression, de débit ou de concentration, tandis que les sorties analogiques contrôlent les vannes et les pompes pour maintenir le processus de nettoyage dans une fenêtre de fonctionnement définie.

Avec les E/S distantes RB, le fabricant d'équipement peut :

• Consolider les capteurs et les actionneurs dispersés autour de la machine en stations distantes unifiées ;

• Réserver une capacité d'E/S pour les futurs points de surveillance ou l'optimisation des recettes sans recâblage majeur ;

• Alimenter les données vers des systèmes de niveau supérieur pour l'analyse des tendances et la recherche des causes profondes, améliorant ainsi la cohérence du nettoyage.

Cela permet aux fabricants de photovoltaïque de moderniser leurs sections de nettoyage de plaquettes vers un mode plus axé sur les données sans changer leur principale plateforme API.